Photosensitive Harz bezitt sech op d'Material dat benotzt gëtt fir d'Liichthärung séier Prototyping.Et ass flësseg Liichthärend Harz, oder flësseg fotosensibel Harz, deen haaptsächlech aus Oligomer, Photoinitiator a Verdünnung besteet.De fotosensiblen Harz, deen fir SLA benotzt gëtt, ass am Fong d'selwecht wéi de gewéinleche Liichthärte Prepolymer.Wéi och ëmmer, well d'Liichtquell, déi fir SLA benotzt gëtt, monochromatesch Liicht ass, wat anescht ass wéi normal ultraviolet Liicht, a méi héich Ufuerderunge fir d'Aushärtungsquote huet, soll de photosensitive Harz, deen fir SLA benotzt gëtt, allgemeng déi folgend Charakteristiken hunn.
(1) Niddereg Viskositéit.Liichthärung baséiert op CAD Modell, Harz Schicht fir Schicht an Deeler iwwerlagert.Wann eng Schicht fäerdeg ass, well d'Uewerflächespannung vum Harz méi grouss ass wéi déi vum festen Harz, ass et schwéier fir de flëssege Harz automatesch d'Uewerfläch vum ausgeheilten Harz ze decken. d'Hëllef vun engem automateschen Schrack, an déi nächst Schicht kann nëmme veraarbecht ginn nodeems de Flëssegkeetsniveau ausgeglach ass.Dëst erfuerdert datt d'Harz eng geréng Viskositéit huet fir seng gutt Ausgläichung an einfach Operatioun ze garantéieren.Elo ass d'Harz Viskositéit allgemeng erfuerderlech fir ënner 600 CP · s (30 ℃) ze sinn.
(2) Kleng Aushärtungsschrumpfung.D'Distanz tëscht flëssege Harzmoleküle ass d'Van der Waals Kraaftaktiounsdistanz, déi ongeféier 0,3 ~ 0,5 nm ass.Nom Aushärtung ginn d'Moleküle vernetzt a bilden eng Netzwierkstruktur.D'Distanz tëscht de Moleküle gëtt a kovalente Bindungsdistanz ëmgewandelt, wat ongeféier 0,154 nm ass.Natierlech fällt d'Distanz tëscht Molekülle virun an no Aushärung erof.D'Distanz vun enger Additiounspolymeriséierungsreaktioun tëscht Moleküle soll ëm 0,125 ~ 0,325 nm reduzéiert ginn.Och wann am Prozess vun der chemescher Ännerung, C = C op CC ännert an d'Bindungslängt liicht eropgeet, ass de Bäitrag zu der Verännerung vun der intermolekulärer Interaktiounsdistanz ganz kleng.Dofir ass de Volumenschrumpfung inévitabel nom Aushärtung.Zur selwechter Zäit, virun an no Aushärtung, vu Stéierungen op méi Uerdnung, gëtt et och Volumenschrumpfung.D'Schrumpfung ass ganz ongënschteg fir d'Formatiounsmodell, wat intern Stress produzéiert, wat einfach Verformung, Warpage a Rëss vu Modelldeeler verursaache kann an d'Genauegkeet vun Deeler eescht beaflossen.Dofir ass d'Entwécklung vu nidderegen Schrumpfharz den Haaptproblem deen de SLA Harz am Moment konfrontéiert ass.
(3) Schnell Aushärtungsrate.Allgemeng ass d'Dicke vun all Schicht 0,1 ~ 0,2 mm fir Schicht fir Schicht während der Schimmel ze heelen, an een Deel muss fir Honnerte bis Dausende vu Schichten geheelt ginn.Dofir, wann de Feststoff a kuerzer Zäit hiergestallt soll ginn, ass den Aushärtungsquote ganz wichteg.D'Beliichtungszäit vun engem Laserstrahl op e Punkt ass nëmmen am Beräich vu Mikrosekonnen bis Millisekonnen, wat bal gläichwäerteg ass mat der opgereegter Liewensdauer vum benotzte Photoinitiator.Niddereg Aushärtungsquote beaflosst net nëmmen den Aushärtungseffekt, mee beaflosst och direkt d'Aarbechtseffizienz vun der Formmaschinn, sou datt et schwéier ass fir kommerziell Produktioun gëeegent ze sinn.
(4) Kleng Schwellung.Am Prozess vun der Modellbildung ass de flëssege Harz op e puer geheelt Werkstécker bedeckt ginn, déi an déi geheelt Deeler penetréiere kënnen an d'geheilt Harz schwellen, wat zu enger Erhéijung vun der Deelgréisst resultéiert.Nëmme wann d'Harz Schwellung kleng ass, kann d'Genauegkeet vum Modell garantéiert ginn.
(5) Héich Liichtempfindlechkeet.Well SLA benotzt monochromatesch Liicht, et verlaangt, datt d'Wellelängt vun photosensitive resin a Laser Match muss, dat ass, der Wellelängt vun Laser soll no bei der maximal Absorptioun Wellelängt vun photosensitive resin sou wäit wéi méiglech ginn.Zur selwechter Zäit soll d'Absorptiounswellelängteberäich vu fotosensibelen Harz schmuel sinn, fir datt d'Aushärtung nëmmen op de Punkt vum Laser bestraht gëtt, fir d'Fabrikatiounsgenauegkeet vun Deeler ze verbesseren.
(6) Héich Aushärtungsgrad.D'Schrumpfung vum Post-Aushärtungsmodell ka reduzéiert ginn, sou datt d'Posthärtdeformatioun reduzéiert gëtt.
(7) Héich naass Kraaft.Héich naass Kraaft kann suergen datt et keng Verformung, Expansioun an Interlayer Peeling am Posthärungsprozess gëtt.
Post Zäit: Jun-01-2022